实验室介绍

实验室始终坚持面向国家集成电路产业当前和未来需求，面向前沿技术，面向国内空白，聚焦电子电镀、电子清洗、电子光刻、电子研磨、电子蚀刻五大研究方向，重点解决半导体湿法工艺化学材料与光刻材料、研磨材料等“卡脖子”技术难题，开展相关基础研究与产业应用技术研究工作和技术交流工作。

实验室面积达7000平方米，包括1500平方米洁净实验室。实验室研发和检测仪器、设备、设施原值超过5亿元。实验室已建成技术水平先进的电镀材料、清洗材料、光刻材料、研磨材料、蚀刻材料研发和应用平台。实验室研发和应用平台面向行业和相关科研院所开放，旨在推动行业交流和技术进步。