实验室介绍

　　上海市集成电路关键工艺材料重点实验室依托上海新阳半导体材料股份有限公司，以电子电镀、电子清洗、光刻胶为主要研究方向，重点解决半导体湿法工艺化学材料与光刻胶这样“卡脖子”的技术难题，开展相关基础研究与产业技术应用研究工作。2020年1月2日，由上海市委常委、副市长吴清授牌。现届学术委员会主任为张卫教授，现任实验室主任为王溯博士。

 

　　实验室现有固定研究人员47人，其中博士2人，硕士18人，上海市千人计划1人，松江区领军人才1人。有近30%的专业技术人员行业经验在10年以上，形成了一批由海外归国专家、留学回国人员及国内多年从事该领域研发的专业人才组成的高素质和专业经验丰富的技术研发团队。

 

 

　　实验室面积达3600m²，经过多年持续不断的研发投入和建设，已拥有高品质实验设备60余台，可基本满足半导体化学工艺材料研发及其应用技术开发过程中所需各项检测需求。包括化学品结构和成分分析、产品应用后物理性能测试、可靠性测试等。主要设备包括： 双束共聚焦场发射扫描电子显微镜(SEM-FIB)、扫描电子显微镜&能谱仪(SEM-EDX)、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）、电感耦合等离子发射质谱仪(ICP-MS）、高效液相色谱(HPLC)、气相色谱-质谱仪(GC-MS)等。

 

　　实验室聚焦于集成电路产业发展对关键工艺材料的新需求，开发化学材料及其应用技术，瞄准国际前沿技术，面向集成电路产业未来发展，致力于在集成电路关键工艺材料研究与应用领域发挥骨干和示范作用。